Mangas de grafito para equipos semiconductores.
Jincheng Graphite, como fabricante profesional de fundas de grafito, ofrece fundas de grafito-resistentes a altas temperaturas y de alta conductividad térmica para equipos semiconductores. Estas fundas están especialmente diseñadas para cámaras de reacción y equipos de vacío de alta-temperatura y presentan una gran estabilidad térmica, resistencia a la corrosión y una larga vida útil. Se utilizan ampliamente en la industria de fabricación de semiconductores.
Ventaja principal
Resistencia a temperaturas extremas
Utilizando un proceso de compuesto cerámico y grafito de alta-pureza (contenido de carbono superior o igual al 99,99%), el rango de resistencia a la temperatura es de -200 grados a 3000 grados, adecuado para entornos de reacción de alta temperatura en equipos semiconductores.
Alta conductividad térmica
Mediante la combinación de una estructura de grafito multi-capa y una cámara de vacío, la resistencia térmica se reduce a 0,05 K/W, lo que garantiza una distribución uniforme de los gases de alta-temperatura y evita el sobrecalentamiento local que provoca la deformación del material.
Fuerte estabilidad química
Excelente resistencia a la corrosión, capaz de operar de manera estable en gases de proceso de semiconductores como hidrógeno y nitrógeno durante mucho tiempo, reduciendo la frecuencia de mantenimiento de los equipos.
Escenario de aplicación
Equipo de cámara de reacción de alta-temperatura
Utilizado en procesos de fabricación de semiconductores como CVD y PVD, el manguito de grafito puede conducir el calor de manera uniforme, mejorando la estabilidad y el rendimiento del proceso.
Sistema de calefacción ambiental al vacío.
Durante los procesos de secado y recocido de obleas semiconductoras, la funda de grafito proporciona una distribución uniforme del calor, lo que reduce el riesgo de estrés térmico.
Equipo láser de alta-potencia
Compatible con cavidades láser de alta-energía, conduce rápidamente el calor a través de la funda de grafito para garantizar el funcionamiento seguro del equipo.
Parámetros técnicos
| Conductividad térmica | 250 - 400 W/m·K (personalizable según requisitos del proceso) |
| Rango de temperatura de funcionamiento | -200 grados a 3000 grados |
| Ambiente de gas adecuado | hidrógeno, nitrógeno, argón, etc. gases de proceso semiconductores |
| Tratamiento superficial | pulido / recubrimiento por plasma (personalizable) |
Garantía de calidad del grafito Jincheng
Basado en 20 años de experiencia en investigación de materiales de grafito, Jincheng Graphite adopta tecnología patentada de compuesto de vacío y tecnología de llenado de grafito de grado nanométrico- para garantizar la estabilidad de las mangas de grafito en condiciones extremas. Certificado por el sistema de calidad ISO 9001 y los estándares aeroespaciales AS9100, cumple con los requisitos de escenarios de aplicaciones de alta-confiabilidad.
Compromiso de cooperación
Jincheng Graphite ofrece un-servicio personalizado de proceso completo, desde el diseño, la producción hasta el servicio postventa-, admitiendo la producción de prueba en pequeños-lotes y la personalización a gran-escala. Garantiza un ciclo de entrega corto y costes controlables. A través de la red de logística global y los equipos de servicio locales, proporciona soluciones de fundas de grafito estables y eficientes para equipos semiconductores, lo que ayuda a lograr un funcionamiento estable a largo plazo-de procesos de alta-precisión.
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