El tablero aislante de grafito está elaborado a partir de grafito de alta-pureza (con contenido de carbono mayor o igual al 99,9%) mediante procesos de prensado, sinterización, purificación y modificación del aislamiento superficial. A diferencia de las placas de grafito conductoras ordinarias, logra "aislamiento de alta -temperatura + baja conductividad térmica" controlando la estructura de los poros y aplicando recubrimientos/impregnaciones aislantes. Es el material central del campo térmico en entornos que oscilan entre 1000 grados y 2500 grados, como hornos de vacío, hornos de silicio monocristalino y hornos de carburo de silicio.
Densidad: 1,6–1,8 g/cm³ (versión de alta pureza 1,75–1,85)
Contenido de carbono: mayor o igual al 99,9 % (pureza ultra-alta mayor o igual al 99,99 %)
Porosidad: 10%–20% (principalmente poros cerrados, clave para el aislamiento y la preservación del calor)
Tasa de absorción de agua: inferior o igual al 0,5 % (a prueba de humedad-, evita grietas a altas temperaturas)
Tamaño estándar: 1000×1000×(5–50) mm, personalizable para placas extra-grandes
2. Propiedades mecánicas
Resistencia a la compresión: 40–60 MPa
Resistencia a la flexión: 25–35 MPa
Dureza Shore: 40–60 HSD
Módulo elástico: 8–12 GPa (resistente al choque térmico, menos propenso a agrietarse)
3. Propiedades térmicas (núcleo)
Temperatura máxima de funcionamiento: 2500 grados (vacío/atmósfera inerte); Menos o igual a 600 grados (aire, requiere recubrimiento antioxidante)
Conductividad térmica: 0,5–1,2 W/m·K (2000 grados) (1/200 de grafito ordinario, excelente aislamiento térmico)
Coeficiente de expansión térmica: 2,5–4,5×10⁻⁶ /K (extremadamente bajo, excelente resistencia al choque térmico)
Estabilidad térmica: menor o igual al 1,5 % de pérdida de masa después de 1000 grados × 24 h
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El panel aislante de grafito (también conocido como panel aislante térmico de grafito duro) es un tipo de producto fabricado con grafito con alto contenido de carbono-como material base.
Problema común
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Escenarios de aplicación típicos
Semiconductores: horno de crecimiento de silicio monocristalino, horno epitaxial de carburo de silicio, horno de recocido al vacío para aislamiento térmico/aislamiento térmico.
Energía fotovoltaica: horno de lingotes de silicio policristalino, horno de difusión de alta-temperatura para células solares
Metalurgia: horno de fusión por inducción al vacío, horno de sinterización de pulvimetalurgia
Nueva energía: horno de grafitización con electrodo negativo de batería de litio y horno de tratamiento de alta temperatura con energía de hidrógeno
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